삼성전자 "7나노 로직 공정 내년 초 양산 예정"

정현정 기자2017.01.24

  • 글자 작게
  • 글자 크게

삼성전자 반도체 시스템LSI 사업부 허국 상무는 24일 4분기 실적발표 컨퍼런스콜에서 "삼성전자는 14나노부터 첨단 공정 경쟁력을 강화해서 업계 최초 양산에 성공했고 7나노 역시 2018년 초 생산을 목표로 추진하고 있다"고 밝혔다.

삼성전자는 7나노 이하 로직 공정에 EUV(극자외선 노광장비)를 도입하기로 했다.

허 상무는 "7나노 공정에 EUV 장점을 극대화해서 성능과 전력소모 측면에서 경쟁력을 확보할 예정"이라고 맑혔다.

그는 "7나노 기술은 패터닝 스케일링 모두 도전적일 것으로 예상한다"며 "(삼성이) 가장 경쟁력 있게 개발할 자신이 있고 고객 확보에도 큰 문제가 없어 14나노 및 10나노와 동일하게 가장 앞선 기술을 선도해나갈 것"이라고 말했다.

허 상무는 또 "14나노 공정 안정화에 힘입어 본격적으로 모바일, 자동차, 네트워크, 그래픽 등 다변화를 추진하고 소기 성과를 거두고 있다"며 "14나노 공정 수요도 견조할 것으로 예상되며 시장 고객 수요를 수시로 예측하면서 기존 라인을 중심으로 탄력적으로 캐파를 운용할 것"이라고 말했다.